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ASML


ASML: ASML Holding N.V.)は、オランダ南部・フェルトホーフェンに本部を置く半導体製造装置メーカーである。半導体露光装置(ステッパーフォトリソグラフィ装置)を販売する世界最大の会社で、16ヶ国に60以上の拠点を有し、世界中の主な半導体メーカーの80%以上がASMLの顧客である。ユーロネクストNASDAQ上場企業(EuronextASMLテンプレート:NASDAQ)。

概要

IDMファウンドリなどの半導体メーカーは、ムーアの法則に従い、製造するIC(集積回路)を年々微細化する。ICの製造工程では、30から40回シリコンウェハーに露光するため、露光機の性能がICの性能を左右すると言っても過言ではない。その為、ASMLは継続的に研究開発を行っている[1]

近年の露光機には、光源に紫外線を発するArFエキシマレーザーが使用されており、さらに液浸露光技術が用いられる。2007年には液浸露光装置の解像度が37ナノメートルに達した。[2]

光学系はカール・ツァイスが供給し、蛍石石英レンズに使用されている。近年では反射鏡を組み合わせた光学系もある。

ASMLは液浸の採用によって2003年以降、躍進した[3]。2006年に出荷された「XT:1700i」は45nm世代の量産に向けたArF液浸スキャナーで、光学系の開口数(N.A.)が1.20と、初めてこれまでの限界とされてきた1.00を超えた[3]

世界シェア・ランキング

売上高ベースで2007年のASML露光装置の世界シェアは65%。[4] 1996年は日本のニコンが約50%弱、キヤノンが約25%のシェアを獲得していた。

2008年の半導体製造装置メーカーランキング(VLSI Researchによる)では、東京エレクトロンを抜き2位に浮上し、[5] 2011年の同ランキングではアプライド・マテリアルズを抜き、初めて1位となった。[6]

沿革

  • 1984年 フィリップス社とASM International社がそれぞれ50%ずつ出資する合弁会社ASM Lithographyとして設立[2]
  • 1988年 スピンオフし独立した企業となり、旧社名の省略形のASMLを社名とする
  • 1995年 アムステルダム証券取引所およびナスダックに上場[2]
  • 2001年 エーエスエムエル・ジャパン株式会社を設立
  • 2004年8月にArF液浸露光装置の第1世代機(試作機)「AT:1150i」出荷
  • 2004年 第2世代機(先行量産機)「XT:1250i」出荷
  • 2004年 第3世代機(量産機)「XT:1400i」出荷
  • 2006年 第4世代機(量産機)「XT:1700i」出荷
  • 2012年 アメリカの同業サイマーを買収[7]
  • 2016年 台湾の漢民微速科技を買収[8]

関連項目

外部リンク

出典

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