ASML

ASML（蘭: ASML Holding N.V.）は、オランダ南部・フェルトホーフェンに本部を置く半導体製造装置メーカーである。半導体露光装置（ステッパー、フォトリソグラフィ装置）を販売する世界最大の会社で、16ヶ国に60以上の拠点を有し、世界中の主な半導体メーカーの80%以上がASMLの顧客である。ユーロネクスト、NASDAQ上場企業（Euronext: ASML 、テンプレート:NASDAQ）。

概要

ファイル:ASML headquarters Veldhoven.jpg

ASML本社

IDMやファウンドリなどの半導体メーカーは、ムーアの法則に従い、製造するIC（集積回路）を年々微細化する。ICの製造工程では、30から40回シリコンウェハーに露光するため、露光機の性能がICの性能を左右すると言っても過言ではない。その為、ASMLは継続的に研究開発を行っている。

近年の露光機には、光源に紫外線を発するArFエキシマレーザーが使用されており、さらに液浸露光技術が用いられる。2007年には液浸露光装置の解像度が37ナノメートルに達した。

光学系はカール・ツァイスが供給し、蛍石や石英がレンズに使用されている。近年では反射鏡を組み合わせた光学系もある。

ASMLは液浸の採用によって2003年以降、躍進した。2006年に出荷された「XT:1700i」は45nm世代の量産に向けたArF液浸スキャナーで、光学系の開口数（N.A.）が1.20と、初めてこれまでの限界とされてきた1.00を超えた。

世界シェア・ランキング

売上高ベースで2007年のASML露光装置の世界シェアは65％。 1996年は日本のニコンが約50％弱、キヤノンが約25％のシェアを獲得していた。

2008年の半導体製造装置メーカーランキング（VLSI Researchによる）では、東京エレクトロンを抜き2位に浮上し、 2011年の同ランキングではアプライド・マテリアルズを抜き、初めて1位となった。

沿革

• 1984年 フィリップス社とASM International社がそれぞれ50％ずつ出資する合弁会社ASM Lithographyとして設立
• 1988年 スピンオフし独立した企業となり、旧社名の省略形のASMLを社名とする
• 1995年 アムステルダム証券取引所およびナスダックに上場
• 2001年 エーエスエムエル・ジャパン株式会社を設立
• 2004年8月にArF液浸露光装置の第1世代機（試作機）「AT:1150i」出荷
• 2004年 第2世代機（先行量産機）「XT:1250i」出荷
• 2004年 第3世代機（量産機）「XT:1400i」出荷
• 2006年 第4世代機（量産機）「XT:1700i」出荷
• 2012年 アメリカの同業サイマーを買収
• 2016年 台湾の漢民微速科技を買収

関連項目

• 国際半導体技術ロードマップ
• IMEC （英語）
• Multiple Patterning （英語）
• EUV Lithography （英語）

外部リンク

• ASML 日本語版公式サイト
• グローバルサイト（英語）